Literaturnachweis - Detailanzeige
| Autor/in | Jacob, Herbert |
|---|---|
| Titel | Reinstsilicium - Werkstoff des Computerzeitalters. |
| Quelle | In: Praxis der Naturwissenschaften. Chemie, 37 (1988) 5, S. 12-19 |
| Sprache | deutsch |
| Dokumenttyp | gedruckt; Zeitschriftenaufsatz |
| ISSN | 0177-9516; 0342-8745 |
| Schlagwörter | Sachinformation; Fotografie; Anorganische Chemie; Chemie; Kristall; Silicium; Zonenziehverfahren; Halbleiter; Grafische Darstellung; Technik |
| Abstract | Halbleiterbauelemente aus Silicium sind bereits in viele Lebensbereiche vorgedrungen, sie sind aus Industrie, Energieversorgung, Verkehrs-, Informations- und Unterhaltungstechnik nicht mehr hinwegzudenken. Zur Halbleitererstellung wird Reinstsilicium benoetigt, das als einzigstes Produkt grosstechnisch mit einer Reinheit von 99, 999 999 9 % hergestellt wird. In dem vorliegenden Beitrag sind Verfahren zur Herstellung von Reinstsiliciumeinkristallen und die Weiterverarbeitung des Siliciums in der Halbleitertechnik ausfuehrlich beschrieben. Detailliert dargestellt sind die Herstellung polykristallinen Reinstsiliciums ueber das Siemensverfahren, die Einkristallherstellung mit dem Czochralski- und dem Zonenziehverfahren, das Dotieren des Siliciums, die Herstellung von Scheiben aus einkristallinem Silicium und die Epitaxie (Beschichten mit Silicium). Der weitere Ablauf der Bauelementeherstellung ist skizziert, Fotos aus Industrie und Fertigung liegen bei. |
| Erfasst von | Hessisches Landesinstitut für Pädagogik, Wiesbaden |
| Update | 1994_(CD) |
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